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作者:电脑知识网 分类:科技资讯 时间:2024-09-29 02:42:12 浏览:27

内容导读:    中国科学院大连化学物理研究所杨维慎团队近日在气体分离膜领域取得重要进展转载科技资讯,制备转载科技资讯了气体分离“大师”——一个厚度小于10纳米的超薄MOF纳米片膜转载科技资讯,该膜可单独通过氢气,而将不需要的二氧化碳留下。  近日,...……

  

  中国科学院大连化学物理研究所杨维慎团队近日在气体分离膜领域取得重要进展转载科技资讯,制备转载科技资讯了气体分离“大师”——一个厚度小于10纳米的超薄MOF纳米片膜转载科技资讯,该膜可单独通过氢气,而将不需要的二氧化碳留下。

  近日,杨维慎团队在二维MOFs气体分离膜领域又取得新的重要进展转载科技资讯:研究团队选择了一种全新双亲性层状MOF前驱体Zn2(Bim)3,首次将其开层得到双层厚度纳米片,并通过热组装方法制备了厚度小于10 纳米的超薄MOF纳米片膜。由于双亲性材料对二氧化碳的“偏爱”,二氧化碳分子想要透过膜,需要耗费更多的能量,因此该膜随着测试温度的升高,其对氢气透量和混合气体分离选择性同时升高,二氧化碳透量却几乎不变,完全不像其转载科技资讯他二维纳米片膜材料那样性能随温度升高而降低。

  这个新型双亲性MOF纳米片,不仅在二氧化碳燃烧前捕获领域具有广阔应用前景,对于未来纳米片膜材料的选取,也具有重要指导意义。

  

  Hello,伙伴们

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